先進(jìn)制程、先進(jìn)工藝發(fā)表時(shí)間：2022-07-27 14:56 當(dāng)下時(shí)點(diǎn)芯片制造最小技術(shù)節(jié)點(diǎn)， 目前國(guó)內(nèi)通常指28nm/14nm 以下工藝制程 上一篇良率
下一篇介電常數(shù)、k
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先進(jìn)制程、先進(jìn)工藝發(fā)表時(shí)間：2022-07-27 14:56 當(dāng)下時(shí)點(diǎn)芯片制造最小技術(shù)節(jié)點(diǎn)， 目前國(guó)內(nèi)通常指28nm/14nm 以下工藝制程 上一篇良率
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